【普迪真空交付案例】时间：3月1日-3月5日

三月 案例一：广西大学  高真空蒸发镀膜设备PD-200I

2025年3月3日，普迪真空售后服务工程师带着满满的热情与专业的技能，踏上了这片充满希望的土地，他的目标是—成功交付一台全新的高真空蒸发镀膜设备PD-200I。

该系统是在真空条件下通过电阻加热材料的方法，在衬底上沉积各单层金属膜，主要用于蒸镀电极及有机半导体材料的物理化学性能研究实验研究。该设备广泛用于高校、科研院所的教学、教研实验以及生产型企业前期探索型实验及开发新产品等。

三月 案例二：湖南大学 高真空磁控溅射系统*PD-400C

2025年3月4日，普迪真空售后服务工程师在湖南大学也留下了他专业的足迹。成功交付了一台高真空磁控溅射系统*PD-400C。

安装现场，售后服务工程师依据场地规划与设备特点，精心布局。首先，将设备平稳放置在预先准备好的安装平台上，通过水平仪反复校准，确保设备处于绝对水平状态，这关乎后续溅射的均匀性。接着，按照安装手册，连接外部电源、冷却水管路以及真空系统管道。每一个连接点都仔细检查，确保密封良好，防止泄漏影响设备性能。期间，还会对设备外观进行检查，确保运输过程中无磕碰损坏。在设备安装调试完成后，普迪售后服务工程师耐心地为教授和他的博士生们讲解如何操作这台精密的设备，并留下了珍贵的合影。

设备原理揭秘：由惰性气体产生辉光放电现象生成带电粒子，带电粒子经过电场加速后轰击固体靶材表面，使靶材表面原子和分子被轰击飞溅出来，同时产生二次电子，二次电子再次撞击气体分子使其电离产生更多的带电粒子，从靶材溅射出来的粒子在低压气氛中向衬底作渡越运动，碰撞到衬底上并被衬底吸附，最终凝聚在衬底形成所需要的薄膜。适用于：镀氮化物，氧化物等材料。

三月 案例三：中山大学  小型磁控溅射镀膜机PD-200C

2025年3月5日，在这个阳光明媚的日子里，中山大学迎来了一位科技新伙伴—小型磁控溅射镀膜机PD-200C。

PD-200C小型磁控溅射镀膜仪，是在真空条件下通过加热材料的方法，在衬底上沉积各单层金属膜的高科技设备。它主要用于有机半导体材料的物理化学性能研究实验研究，广泛应用于高校、科研院所的教学、科研实验以及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等领域。它的出现，无疑将为中山大学的科研事业注入新的活力与动力。