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PD-400高真空蒸镀设备
产品摘要
PD-400高真空蒸发镀膜设备可配置4-6组蒸发源(可使用丝状源与舟状源),兼容金属材料蒸发与有机材料蒸发(有机材料蒸发使用钨篮与坩埚组合的蒸发源)。可用来制备金属膜、有机膜及扫描电镜制样等。广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等,特别适合OPV 钙钛矿无机薄膜太阳能电池、半导体、OLED显示研究与开发领域。
产品介绍

设备特点:

★性能卓越的蒸发电源;保证工艺稳定性及高重复性

★专业真空蒸发电源,恒流/恒功率控制。电流、功率可以预先设置,可实现一键启动和停止的自动控制功能

★系统采用PLC+触摸屏操作,整体美观操作简单,自动化程度高

★衬底可选择加热或水冷,源基距最大350mm

设备参数:

腔体尺寸(L×W×Hmm):350×350×450

设备尺寸(L×W×Hmm):850×1100×1900

真空极限:优于(5E﹣05)Pa

抽速保压:(8E﹣04)≤30min保压12小时≤5pa

★膜厚均匀性优异(±3%~±5%),重复性优异(±3%~±5%)

★基片台120mm×120mm

蒸发源:可搭配4~6组蒸发源(兼容金属与有机),可共蒸或切换蒸发


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