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连续进样磁控溅射设备
产品摘要
设备为连续式多腔室磁控溅射镀膜系统,可用于 Ti、Cu、Ni、氧化镍、ITO 等各种金属膜或氧化物薄膜的制备,可在工件上制作单面或双面的单层膜和多层膜。
产品介绍

主要特点:

★溅射镀膜室配有带挡板的观察窗,可以很方便的观察设备内部的工作状态。

★基片架可以在溅射室实现往复运动;往复位置和运动速度可以设定。

★自动传递方式,调频电机控制,同步运行。室内均有定位功能,可实现原点复位。


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