设备特点:
★结构设计紧凑,布局合理;合理利用空间且方便检修。
★设备配备小车进料出料,方便快捷,节省镀膜生产时间。
★样品架移动加偏压设计,提高膜层结合力。
★双轨道设计稳定可靠,即使在高温环境下小车各室传递及运动也能平稳匀速,从而保证薄膜质量。
设备参数:
★真空室(三/五腔室)(L×W×Hmm):2600x2200x450mm
★真空极限:(2E﹣04)Pa
★溅射靶:800×120×7mm 2-4支根据实际需要选择配备
★样品加热:加热温度≥300℃,控制精度±1度,均匀性±5°
★有效溅射面积:670mm×80mm