设备特点:
★全不锈钢真空腔室,保证系统的耐久性及操作安全性
★更的小体积,系统采用模块化设计,可扩展性高
★系统采用机械泵+进口分子泵组成高真空系统,抽到工作高真空仅需15-20min,节省实验时间
设备参数:
★腔体尺寸(L×W×Hmm):Φ220×H340(圆柱型)
★设备尺寸(L×W×Hmm):500×500×750
★基片台:基片样品台加热温度室温≤350°
★真空极限:(5E﹣05)Pa
★抽速保压:(8E﹣04)Pa≤30min保压12小时≤8pa
★托盘均匀性优于±3%~±5%
★溅射靶枪两个2英寸溅射尺寸2-3英寸