该设备是一款 Inline 型连续蒸镀设备,主要用于产业化研究。它能够蒸镀有机、无机或金属材料,为各种薄膜材料的研究和应用提供了强有力的支持。对于有机材料,Inline 型连续蒸镀设备能够提供高质量的薄膜,具有较高的结晶度和良好的电性能。对于无机材料,该设备能够实现高纯度、高密度的薄膜沉积。对于金属材料,Inline 型连续蒸镀设备能够提供具有优良导电性能和机械性能的薄膜。
设备特点:
★镀率PID自动调节,实现稳定蒸镀速率
★长时间运行生产,确保产线稼动率
★线型蒸发源最高温度650℃;点型蒸发源最高温度1500℃
设备参数:
★基板尺寸:基板最大宽幅≤650mmx450mm;roller to roller传动
★蒸镀方式:点型蒸发源、电子束、线型蒸发源
★膜厚均匀性优异(±3%~±5%)重复性优异(±2%~±3%)